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三離子切割儀可以靈活選擇多種樣品臺，不僅適用于高通量實(shí)驗(yàn)，也適合于特定制樣需求實(shí)驗(yàn)室。對地質(zhì)樣品中的油頁巖、煤層、礦石、土壤和沉積物等多種類型，對這些樣品進(jìn)行制樣處理的主要操作就是獲得一個無損傷的平整面。機(jī)械切割和機(jī)械磨拋很難避免處理過程中造成樣品的微觀組織破壞和磨料污染現(xiàn)象。特別是在掃描電鏡高放大倍數(shù)的形貌觀察下，地質(zhì)樣品的微觀結(jié)構(gòu)破壞非常明顯。三離子切割儀采用離子束轟擊樣品表層區(qū)域進(jìn)行切割，是一種無機(jī)械應(yīng)力破壞和無磨料污染的表面處理方式。經(jīng)過離子束制備的樣品，適合于掃描電...

液體導(dǎo)電膠是一種固化或干燥后具有一定導(dǎo)電性能的膠黏劑，應(yīng)用于液晶顯示屏（LCD）、發(fā)光二極管（LED）、集成電路(IC)芯片、印刷線路板組件(PCBA)、點(diǎn)陣塊、陶瓷電容、薄膜開關(guān)、智能卡、射頻識別等電子元件和組件的封裝和粘接，有逐步取代傳統(tǒng)的錫焊焊接的趨勢。液體導(dǎo)電膠的常見類別分析：1.按基體可分為熱塑性和熱固性。熱塑性基體樹脂分子鏈很長，且支鏈少，在高溫下固化時流動性較好，可重復(fù)使用。而熱固性基體材料初是單體或預(yù)聚合物，在固化過程中發(fā)生聚合反應(yīng)，高分子鏈連接形成交聯(lián)的三維...

液體導(dǎo)電膠主要由樹脂基體、導(dǎo)電粒子和分散添加劑、助劑等組成。目前市場上使用的導(dǎo)電膠大都是填料型。填料型導(dǎo)電膠的樹脂基體,原則上講,可以采用各種膠勃劑類型的樹脂基體,常用的一般有熱固性膠黏劑如環(huán)氧樹脂、有機(jī)硅樹脂、聚酰亞胺樹脂、酚醛樹脂、聚氨酯、丙烯酸樹脂等膠黏劑體系。這些膠黏劑在固化后形成了導(dǎo)電膠的分子骨架結(jié)構(gòu),提供了力學(xué)性能和粘接性能保障,并使導(dǎo)電填料粒子形成通道。由于環(huán)氧樹脂可以在室溫或低于150℃固化,并且具有豐富的配方可設(shè)計性能,目前環(huán)氧樹脂基導(dǎo)電膠占主導(dǎo)地位。導(dǎo)電膠...

離子切割的加工原理與電子束加工基本類似，也是在真空條件下，將離子源產(chǎn)生的離子束經(jīng)過加速后撞擊在工件表面上，引起材料變形，破壞分離。由于離子帶正電荷，其質(zhì)量是電子的千萬倍，因此離子束加工主要靠高速離子束的微觀機(jī)械撞擊動能，因此，離子束撞擊工件將引起變形、分離、玻壞等機(jī)械作用，而不像電子束是通過熱效應(yīng)進(jìn)行加工。在真空室中將離子源產(chǎn)生的離子引出，并在電場中加速，形成幾十電子伏到幾十千電子伏能量的離子束。在離子束濺射沉積、離子束直接沉積或電子束蒸發(fā)沉積薄膜的同時，用上述離子束進(jìn)行轟擊...

從原理上講，掃描電鏡的照明體系與透射電鏡中的類似。但不一樣的是掃描電鏡標(biāo)樣有一些*需求，例如經(jīng)聚光鏡作用后抵達(dá)樣品處的電子束應(yīng)是直徑很細(xì)的電子探針；電子束能作掃描運(yùn)動；末級聚光鏡的計劃應(yīng)便于信號的搜集等。掃描電子鏡電子槍的高壓不及透射電子顯微鏡中那樣高，一般設(shè)定在1-50kv。電子槍的陰極可所以熱鎢絲型的，但近年來已更多選用陰極，有些電鏡上選用場發(fā)射槍，乃至肖特基熱場發(fā)射槍。以熱鎢絲陰極為例，在前述加快電壓下電子發(fā)射所構(gòu)成的光源小的直徑。為了包管較好的分辨率，有必要將它們經(jīng)聚...

TIC3X電鏡制樣設(shè)備可以靈活選擇多種樣品臺，不僅適用于高通量實(shí)驗(yàn)，也適合于特定制樣需求實(shí)驗(yàn)室。依據(jù)具體需求，每臺TIC3X都可裝配多種可切換樣品臺，如標(biāo)準(zhǔn)樣品臺、三樣品臺、旋轉(zhuǎn)樣品臺或冷凍樣品臺，應(yīng)用于常規(guī)樣品制備，高通量樣品制備，以及某些高分子聚合物，橡膠或生物材料等溫度極敏感樣品制備。TIC3X電鏡制樣設(shè)備有關(guān)樣品的初步處理：1.取材對掃描電鏡來說，樣品可以稍大些，面積可達(dá)8×8mm，厚度可達(dá)5mm。對于易卷曲的樣品如血管、胃腸道粘膜等，可固定在濾紙或卡片紙上，以充分暴...

真空鍍膜儀以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子炮擊材料外表，使其濺射出進(jìn)入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額，產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu，Au，Ag等高，Ti，Mo，Ta，W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子能夠直流輝光放電發(fā)生，在10-1-10Pa真空度，在兩極間加高壓發(fā)生放電，正離子會炮擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。真空鍍膜儀為何要進(jìn)行定期的清洗？鍍膜儀使用時間久了之后要定期進(jìn)行清洗。在真空鍍膜儀使用鍍膜材料進(jìn)行鍍膜之前，...