芯明天P18.XY300壓電掃描臺以其大位移、高精度、高穩(wěn)定性等優(yōu)點應(yīng)用 于納米光刻實驗。臺體采用機構(gòu)放大設(shè)計原理，內(nèi)置高可靠性壓電陶瓷，可以實現(xiàn)X、XY、XYZ大370μm 的高速掃描，大通光孔徑為Ø35mm，多種位移行程及規(guī)格型號可供選擇，適用于大行程多維掃描等應(yīng)用。 P-18壓電掃描臺技術(shù)參數(shù)： 型號 | 尾綴S-閉環(huán) 尾綴K-開環(huán) | P18.X200S P18.X200K | P18.X300S P18.X300K | P18.XY200S P18.XY200K | P18.XY300S P18.XY300K | P18.XYZ200S P18.XYZ200K | 單位 | 運動自由度 | X | X | X、Y | X、Y | X、Y、Z | | 標(biāo)稱行程范圍(0~120V) | 200 | 300或±150 | 200/軸 | 300或±150/軸 | 200/軸 | μm±20% | 大行程范圍(-20~150V) | 280 | 370或±185 | 280/軸 | 370或±185/軸 | 280/軸 | μm±20% | 傳感器類型 | SGS/- | SGS/- | SGS/- | SGS/- | SGS/- | | 通孔尺寸 | Ø35 | Ø35 | Ø35 | Ø35 | Ø35 | mm | 閉/開環(huán)分辨率 | 8/5 | 10/5 | 8/5 | 10/5 | 8/5 | nm | 閉環(huán)線性度 | 0.2/- | 0.2/- | 0.2/- | 0.2/- | 0.2/- | %F.S. | 閉環(huán)重復(fù)定位精度 | 0.15/- | 0.1/- | 0.15/- | 0.1/- | 0.15/- | %F.S. | 俯仰/偏航/滾動 | <10 | <15 | <10 | <15 | <15 | µrad | 推/拉力 | 60/20 | 150/150 | 60/20 | 150/150 | 30/10 | N | 運動方向剛度 | 0.3 | 0.5 | X0.3/Y0.3 | X0.5/Y0.5 | X0.1/Y0.1/Z0.1 | N/μm±20% | 空載諧振頻率 | 500 | 600 | X200/Y450 | X250/Y500 | X300/Y200/Z120 | Hz±20% | 閉/開環(huán)空載階躍時間 | 30/5 | 30/10 | 50/5 | 50/10 | 50/5 | ms±20% | 閉環(huán)空載 工作頻率 | 10%行程 | 100 | 50 | 50 | 40 | 30 | Hz±20% | 行程 | 30 | 15 | 15 | 10 | 5 | 大承載 | 2 | 3.5 | 1.5 | 3 | 1 | kg | 靜電容量 | 11 | 21 | 11/軸 | 21/軸 | 11/軸 | μF±20% | 材質(zhì) | 鋁 | 鋁 | 鋁 | 鋁 | 鋁 | | 重量 | 200 | 220 | 360 | 380 | 600 | g±5% |
以上參數(shù)是采用E00系列壓電控制器測得。
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芯明天P18.XY300壓電掃描臺典型應(yīng)用 • 圖像處理與穩(wěn)定 • 掃描顯微 • 干涉/計量 • 表面檢測 • 半導(dǎo)體測量 • 光學(xué)計量 應(yīng)用實例-納米光刻 在納米光刻實驗中需要對鏡片進行高速微納米級的精密移動，從而優(yōu)化鏡片讀取的信息。 芯明天P18.XY300以其大位移、高精度、高穩(wěn)定性等優(yōu)點應(yīng)用于納米光刻實驗。 特性 • 大位移370μm • 大承載3.5kg • 通孔直徑：Ø35mm • 閉環(huán)重復(fù)定位精度高 • 響應(yīng)速度快 1~3維掃描臺 P18系列壓電掃描臺包括X/XY/XYZ三種結(jié)構(gòu)形式，可以 滿足1~3維大行程掃描或定位的應(yīng)用需求。 大位移、大承載、高剛度、高頻響 P18系列壓電掃描臺內(nèi)置高可靠性壓電陶瓷驅(qū)動，可以 實現(xiàn)大370μm的掃描范圍，運動直線性好，可選擇閉環(huán)版 本獲得優(yōu)異的線性度與重復(fù)定位精度。 P18采用*的結(jié)構(gòu)設(shè)計，具有大剛度、大出力、大承 載等特點，大承載達3.5kg，空載諧振頻率達600Hz，配 套芯明天大功率控制器響應(yīng)時間可達5ms，是精密加 工、半導(dǎo)體制造、掃描顯微等應(yīng)用。 |
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